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INCOLOY 825屈服是多少

更新时间:2020-09-07

简要描述:

INCOLOY 825屈服是多少
高温合金是指以铁、镍、钴为基,能在600℃以上的高温及一定应力作用下长期工作的一类金属材料,具有优异的高温强度,良好的抗氧化和抗热腐蚀性能,良好的疲劳性能、断裂韧性等综合性能,又被称为“超合金,"主要应用于航空航天领域和能源领域。

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INCOLOY 825屈服
是什么让上海隆继成为特种钢、镍合金,不锈钢,合金钢的主要生产商和供应商,这种经验和参与这一领域的方式使我们更加坚强,更有信心让我们的客户基本的客户满意度和的质量,仅此而已。产品的性质在范围内保持不变,以协调所设定的模型以及客户的愿望。我们不仅接受我们提供给您的已完成产品的性质,还接受工作中的劳动力素质。我们的,前沿的,机械准备的装配和仓储单元是一种模式,具有质量措施和不断的质量检查。我们的专家和人员团队对产品的性质保持警惕。


Incoloy 825

牌号: Incoloy 825
C(%): 0.04
Si(%): —
Mn(%): —
Cr(%): 21
Ni(%): 42
Mo(%): 3
Co(%): —
W(%): —
Al(%): —
Cu(%): 2
Ti(%): 1
Fe(%): 30
(%): —

Incoloy 825是钛稳定化处理的全奥氏体镍铁铬合金,并添加了铜和钼。Incoloy 825是一种通用的工程合金,在氧化和还原环境下都具有抗酸和碱金属腐蚀性能。

Incoloy 825应用领域
Incoloy 825广泛应用于各种使用温度不超过550℃的工业领域。典型应用为:
●酸酸洗工厂用的加热管、容器、筐及链等。
●海水冷却热交换器、海洋产品管道系统、酸性气体环境管道。
●酸生产中的热交换器、蒸发器、洗涤、浸渍管等。
●石油精炼中的空气热交换器
●食品工程
●化工流程
●压氧气应用的阻燃合金



INCOLOY 825屈服
INCOLOY 825不锈钢表面离子渗氮(碳)技术
    INCOLOY 825不锈钢应用范围十分广泛。面对当前资源短缺的现状,采用各种强化措施来改善已开发INCOLOY 825不锈钢钢种的性能,进一步发挥各种INCOLOY 825不锈钢的优势,拓展其应用范围,是一项迫切而意义深远的工作。INCOLOY 825表面改性处理是低而有效提高材料表面硬度、耐磨性和性能的重要方法。 
    INCOLOY 825由于不锈钢表面氧化膜的存在,使一般的气体渗氮很难进行。虽然表面活化处理后的INCOLOY 825不锈钢可以进体渗氮处理,但是工序复杂,不易控制,所以人们逐渐采用了一些新的渗氮工艺技术。离子渗氮技术就是其中应用的一种。常规离子渗氮是在 500~560℃温度下的N2和H2或NH3混合气氛中进行的。由于离子渗氮能直接去除INCOLOY 825不锈钢表面的钝化膜,并易于实现局部渗氮和较容易控制氮势,在INCOLOY 825不锈钢表面强化方面显示出较大优越性。对一些马氏体不锈钢进行离子渗氮的结果表明,离子渗氮可有效地在不锈钢表面形成一定厚度的渗氮层,而不需要进行去除氧化膜的预处理。渗氮后的INCOLOY 825不锈钢硬度和耐磨性均有显著提高。但是常规的离子渗氮容易在INCOLOY 825不锈钢表面形成CrN而使基体出现贫铬,进而降低不锈钢的耐蚀性。所以,尽管经离子渗氮处理后INCOLOY 825不锈钢的表面硬度、耐磨性和抗擦伤、抗胶合能力有大幅度提高,但若处理不当,容易发生表层剥落、硬化层(渗氮层) 厚度不均匀以及耐腐蚀性大幅下降等质量问题。
    INCOLOY 825为了避免高温下形成CrN,损害不锈钢固有的耐蚀性,必须发展低温处理方法。上世纪80年代研发了等离子体低温渗氮研究,很好地解决了奥氏体不锈钢经处理后耐蚀性降低的技术难题。该技术的关键是在低温下(350~450℃) 进行,以避免形成CrN而使基体贫铬后耐蚀性下降。
    INCOLOY 825尽管低温渗氮技术克服了渗氮后不锈钢耐蚀性下降的问题,但离子渗氮也有其本身的缺点,如边界效应、空心阴效应,以及工件温度不均等。为了克服离子渗氮的缺点,人们开发了活化屏离子渗氮技术。在活化屏渗氮技术中,工件处于悬浮状态,离子轰击金属屏而不是工件本身。与常规离子渗氮相比,该技术可以处理不同形状的工件,并能消除边缘效应以及空心阴效应,还能方便地测量工件的温度。对AISI 420马氏体不锈钢的活化屏渗氮行为的研究表明,新工艺不仅消除了边界效应,而且具有更高的渗氮效率,同时还可以完全消除由边界效应引起的腐蚀环。
    与渗氮相似,对INCOLOY 825不锈钢进行渗碳处理也可分为气体渗碳和离子渗碳两大类型。传统气体渗碳温度很高,一般在800~1000℃,所以对INCOLOY 825不锈钢很少使用,主要采用低温离子渗碳技术。低温离子渗碳处理通常在550℃以下进行,所用气体为H2和CH4或C2H2的混合气体。

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